MR-MPCC：面向移动参考系下机械臂轨迹跟踪的模型预测轮廓控制框架

预印本摘要称，研究者提出了面向速度控制机械臂在移动参考扰动下调节 6-DoF 末端位姿的 MR-MPCC 框架。该架构通过上层 MPCC 优化路径进度并惩罚轮廓与姿态误差，下层通过受约束的 RMRC 映射可行关节速度。该系统在 ROS2-MuJoCo 环境实现并在 UR5e 平台上完成验证，在同等扰动下相较 PI 控制与时间索引跟踪 MPC 取得了更低的几何路径跟踪误差。